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塑料真空镀膜设备的发展相当快

发布日期:2018-03-17 00:00 来源: 点击:

塑料真空镀膜设备的发展相当快,随着生产率的提高,生产费用大大降低,已经为真空镀膜产品的普遍使用铺平了道路。以卷绕式真空镀膜机为例,刚开发时 可镀的薄膜基材宽度是150mm,目前已达2253mm。基材卷筒的最大卷径是1000mm,最大卷绕速度750m/min。自动装卸的半连续卷绕式真空 镀膜机镀膜时间占整个周期的75%,辅助操作时间只占25%。效率更高的从大气到大气的卷绕式真空镀膜机已于1977年出售。随着计测技术、控制技术的进 步和电子计算机的应用,卷绕式真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展。

镀膜设备

卷绕式真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2μm,可以在这个范围内选择,有的还可以镀多层膜,满足多种需要。日本专利提出沉积两种不同 镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室(6)分为上室(7),左下室(8)和右下室(9)。蒸镀时,两组蒸发源(19、23)蒸发的镀膜材料(21、 25)分别沉积在塑料薄膜(11)上,在塑料薄膜没有蒸镀的一侧,装上辉光放电发生器(15、16)。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用 这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜,用于制磁带和薄膜太阳能电池等


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